蘋果公司近日在面部識別技術上取得了新的突破，一項關于下一代Face ID技術的專利獲得批準。這項專利的核心在于將現有的衍射光學元件（DOE）升級為更為先進的“超表面光學元件”（MOE）。
據科技媒體patentlyapple的報道，蘋果當前的Face ID系統依賴于DOE來生成用于3D映射的點狀照明圖案。這些圖案通過結構光投影模組投射到目標區域，從而實現高精度的面部識別。
傳統結構光投影模組包含多個光學元件，如DOE和準直透鏡，它們共同工作以分割光束并投射出所需的點狀圖案。盡管這些模組已經足夠小巧，能夠嵌入智能手機中，但蘋果公司仍在尋求進一步縮小體積的方法。
新專利中的MOE設計方案則提供了一種創新的解決方案。MOE能夠在單一的扁平元件中集成光束分割與準直功能，這不僅顯著減小了投影模組的體積，降低了生產成本，還簡化了組裝流程，減少了制造過程中的誤差。
MOE技術還具有調整投影模組光軸傾斜角度的能力，使其能夠更好地與攝像頭的視野（FOV）重疊。這一設計確保了點狀圖案能夠完全覆蓋攝像頭的視野，從而提升了3D映射的精準度。這一改進對于提高面部識別的準確性和可靠性具有重要意義。
更令人興奮的是，新專利還揭示了設備可以通過控制器交替激活點狀照明和泛光照明的能力。這種靈活性使得Face ID能夠根據不同場景的需求進行自適應調整，進一步提升了用戶體驗。
