近日，《日經亞洲》發布報道，揭示了ASML公司在日本半導體制造業布局的最新動向。隨著日本半導體制造領域的持續擴展，以及對先進光刻機需求的不斷增長，ASML計劃在未來幾年內大幅擴大其在日本的維護團隊規模。
據悉，ASML駐日本的維護團隊規模有望在現有基礎上增至五倍，預計到2027年將達到100人。這一舉措旨在更好地滿足日本客戶對光刻機維護和技術支持的需求，進一步提升ASML在日本市場的服務響應速度和效率。
報道指出，日本境內至少有三個重要項目即將引入ASML提供的EUV光刻設備。其中包括Rapidus位于北海道千歲市的IIM晶圓廠，該廠將采用2nm邏輯工藝；美光在廣島的內存生產線，計劃采用1-gamma DRAM技術；以及臺積電日本子公司JASM的二期晶圓廠，專注于6/7nm邏輯工藝。
若考慮DUV光刻機的應用，ASML在日本市場的設備持有量將進一步增加。為了更有效地支持這些客戶，ASML決定擴大其在日本的本地支持團隊。這一舉措將幫助ASML在日本客戶提出需求時能夠迅速響應，及時處置問題，從而最大限度地減少停機時間，降低客戶的損失。
隨著半導體行業的快速發展和競爭的日益激烈，ASML的這一戰略調整無疑將為其在日本市場的業務拓展提供有力支持。同時，這也將進一步鞏固ASML在全球光刻機市場的領先地位。
