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三星沖擊1nm工藝巔峰,2029年能否量產成焦點?

   時間:2025-04-10 19:11 來源:ITBEAR作者:楊凌霄

三星電子正全力以赴地推進其1nm工藝的研發進程,旨在高端芯片市場搶占先機。據相關消息透露,三星已正式成立專項研發團隊,致力于開發下一代1nm工藝節點,并計劃于2029年投入量產。

為了這一宏偉目標,三星電子半導體研究所已經啟動了1nm工藝的研發工作。值得注意的是,部分曾深度參與2nm工藝研發的核心成員已被調配至該團隊,共同為實現這一“夢想中的半導體工藝”而努力。

據業內人士透露,1nm工藝的研發難度極大,需要引入一系列全新的技術理念,并配備高數值孔徑的極紫外設備。然而,目前三星方面尚未公開確認是否已訂購這些尖端設備。

此番三星的大動作,無疑是在向行業巨頭臺積電發起挑戰。長期以來,臺積電在先進制程領域一直保持著領先地位,其2nm工藝預計將于2026年下半年率先實現量產,同時也在緊鑼密鼓地推進1nm工藝的研發。相比之下,三星在2nm工藝上的良率表現尚不及臺積電,而其1.4nm工藝則預計將于2027年才能量產。

面對如此激烈的競爭態勢,三星顯然希望通過1nm工藝的研發實現“技術逆襲”,從而在高端芯片市場占據更有利的地位。

 
 
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