昨天(1月19日)全球最大的光刻機(jī)供應(yīng)商ASML發(fā)布了2021年Q4及全年財(cái)報(bào)，去年?duì)I收186.11億歐元，較上一財(cái)年增長33%，凈利潤也從35.54億歐元漲至58.83億歐元，全年出貨42套EUV光刻機(jī)，比上一年增加11套。

Q4季度中，ASML公司還新增了71億歐元的新訂單，其中就有一套NA  0.55高數(shù)值孔徑EUV光刻機(jī)的銷售，這是ASML下一代光刻機(jī)，訂購這個(gè)光刻機(jī)的是Intel，據(jù)說成本高達(dá)3億美元，約合19億元。

要知道，在當(dāng)前的EUV光刻機(jī)銷售中，臺積電及三星都是大客戶，訂單量遠(yuǎn)高于Intel，但在下一代EUV光刻機(jī)中Intel拿到了獨(dú)占權(quán)，有一定的搶先期，早在2018年就下第一臺。

在當(dāng)前NA 0.33的EUV光刻機(jī)中，Intel動(dòng)作慢了，被臺積電、三星搶先，Intel的EUV工藝芯片量產(chǎn)要到2023年的14代酷睿Metor  Lake上。

在下一代NA 0.55的EUV光刻工藝中，Intel不允許同樣的錯(cuò)誤再次發(fā)生，這一次要搶先三星臺積電下單，也會(huì)搶先量產(chǎn)20A及18A工藝，首次進(jìn)入埃米級工藝節(jié)點(diǎn)。

基于此，4年來Intel實(shí)際上已經(jīng)下單了6臺NA  0.55的EUV光刻機(jī)，其中分為兩種，Twinscan  Exe:5000系列主要用于工藝研發(fā)，產(chǎn)能輸出是185WPH，每小時(shí)生產(chǎn)185片晶圓，2023年上半年交付。

量產(chǎn)型的NA 0.55光刻機(jī)是Twinscan  Exe:5200，產(chǎn)能提升到200WPH，每小時(shí)200片晶圓，預(yù)計(jì)會(huì)在2024年下線，Intel的20A工藝正好是在2024年量產(chǎn)。