在杭州城西科創大走廊的核心區域，浙江大學成果轉化基地迎來了一個振奮人心的消息：全國首臺國產商業電子束光刻機“羲之”已成功進入應用測試階段。作為基地首批簽約孵化的項目，“羲之”的亮相標志著中國在量子芯片研發領域擁有了自主研發的“刻刀”。

在浙大余杭量子研究院的測試現場，一臺外觀類似大型鋼柜的設備正在進行緊張的應用測試。電子顯示屏上，實時參數不斷跳動，顯示著設備的運行狀態。團隊負責人形象地比喻這臺設備為“納米神筆”，能夠在微小的芯片上“雕刻”出復雜的電路。

據研發團隊介紹，“羲之”之所以得名于書法家王羲之，是因為它同樣以“筆”為工具，只不過這里的“筆”是高能電子束。這臺新一代100kV電子束光刻機通過電子束在硅基上“手寫”電路，精度高達0.6納米，線寬為8納米。其獨特之處在于能夠靈活修改設計，無需掩膜版，非常適合芯片研發初期的反復調試。

此前，由于國際出口管制，此類高端設備一直難以進入中國市場，導致中國科學技術大學、之江實驗室等國內頂尖科研機構長期面臨采購難題。“羲之”的落地不僅打破了這一困局，還以低于國際均價的價格，吸引了多家企業和科研機構的關注。

“羲之”的成功并非偶然，它背后是科技創新與產業創新深度融合的結果。今年7月，省級教育科技人才一體改革專項試點項目在余杭區的浙江大學校友企業總部經濟園落地。浙江大學與該園攜手搭建了成果轉化平臺，實現了從實驗室樣品到量產產品的全流程陪跑。

在城西科創大走廊，這樣的創新融合已成為常態。院士工作站入駐城投未來之星辦公樓，無縫對接企業需求；優秀概念驗證項目征集活動連年舉辦，打通了成果轉化的“最后一公里”。未來，城西科創大走廊將持續推動“兩新融合”，為硬科技突破提供加速動力，推動科技成果更快轉化為現實生產力。

電子束光刻機作為尖端科研與特定工業環節的“刻刀”，雖然目前主要應用于科研領域和光掩模制造，但其高精度和靈活性使其在芯片研發初期具有不可替代的作用。盡管面臨效率瓶頸，但隨著技術的不斷進步，未來有望在多束控制或混合光刻架構上取得突破，進一步擴展應用場景。