【虎科技】8月22日消息，馬來西亞檳城的一次集體采訪中，英特爾(Intel)邏輯開發副總裁William Grimm表示，他對英特爾4納米工藝的表現充滿信心，稱該工藝的良率超出預期。
據了解，英特爾4工藝是該公司首次應用極紫外光(EUV)技術的工藝，William Grimm強調，通過使用EUV，他們可以更好地控制工藝的復雜性。他還指出，與預期相比，他們取得了更高的產量，這對于工藝的推進具有重要意義。
關于工藝性能，根據IC Knowledge提供的逆向工程數據，英特爾4工藝的性能優于臺積電(TSMC)的5納米工藝，甚至接近于臺積電的3納米工藝。盡管如此，William Grimm強調，由于不同代工廠的工藝標準不同，直接比較仍然具有挑戰性。他表示，英特爾4工藝專注于提高能效，這使其特別適用于筆記本電腦等應用領域。
據虎科技了解，William Grimm還提到，他們已經有足夠的EUV產能來滿足市場需求。此外，英特爾的未來計劃也已經明確，他們正在積極推進下一代工藝的開發，其中包括Intel 3工藝。
