去年3月份，Intel推出了IDM 2.0戰略，要重振在半導體領域的領導地位，其中的核心內容就是新建一批先進工藝半導體晶圓廠，在美國俄亥俄州投資200億美元建設兩座晶圓廠。
根據Intel的信息，這兩座芯片廠分別會命名為Fab 52、Fab 62，并首次透露這些工廠將會在2024年量產20A工藝。
該投資計劃預計將創造3000多個高技術、高薪酬的長期工作崗位，以及3000多個建筑就業崗位和大約15000個當地長期工作崗位。
這是俄亥俄州史上最大規模的一筆私人投資，預計每年能帶來28億美元的GDP，還有上面提到的大量工作機會。
Intel在當地建廠，地方政府當然也全力配合了，甚至是不惜血本——日前俄亥俄州新奧爾巴尼市議會以5：0的投票結果通過了對Intel的補貼計劃，那就是未來30年內不用交稅，這無疑是一筆巨額補貼。
不過Intel的晶圓廠建設現在還有點麻煩，原本預計在7月舉行開工儀式，現在被推遲了，因為美國政府的520億美元芯片補貼法案一直在拖延，這里面的補貼對Intel來說依然很重要——地方政府的免稅補貼要拿，聯邦層面的資金補貼也不能少。
