近期，有關英特爾在2025年Intel Foundry Direct Connect大會上對Intel 14A節點的技術路徑保持沉默的消息引起了業界關注。盡管大會未明確透露是否會在該節點引入High NA EUV光刻技術，但代工業務負責人納加·錢德拉塞卡蘭對此話題給出了見解。
據錢德拉塞卡蘭透露，英特爾在14A制程的EUV光刻步驟中擁有靈活的選擇：可以繼續采用傳統的Low NA技術，或是部分引入High NA技術。值得注意的是，這兩種方案在設計規則層面保持兼容，這意味著無論英特爾最終選擇哪條技術路線，都不會對客戶產生任何不利影響。
英特爾在俄勒岡州的研發晶圓廠已經成功安裝了第二套由ASML提供的High NA EUV光刻系統，并且該系統的表現達到了預期。這一進展標志著英特爾在High NA EUV圖案化技術開發方面正穩步邁向量產階段。同時，英特爾已經掌握了High NA EUV在18A和14A節點上的相關數據，為未來的生產奠定了堅實基礎。
