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臺積電2025北美技術(shù)論壇:SoW-X封裝、9.5倍光罩尺寸CoWoS即將面世

   時間:2025-04-24 09:58 來源:ITBEAR作者:江紫萱

臺積電在近期舉辦的2025年北美技術(shù)論壇上,不僅揭開了其最先進的A14邏輯制程的神秘面紗,還在先進封裝技術(shù)方面帶來了一系列令人矚目的進展。

據(jù)臺積電透露,他們正朝著2027年實現(xiàn)9.5倍光罩尺寸的CoWoS技術(shù)量產(chǎn)的目標邁進。這一技術(shù)的突破意味著,利用臺積電的先進邏輯技術(shù),可以將多達12個甚至更多的HBM(高帶寬存儲器)堆疊整合到一個封裝中,從而極大地提升了單個封裝所能容納的芯片面積。

在更大晶圓尺寸封裝系統(tǒng)領(lǐng)域,臺積電推出了SoW系統(tǒng)級晶圓技術(shù)的新升級——SoW-X。與SoW-P采用的Chip-First流程不同,SoW-X采用的是Chip-Last流程,即先在晶圓上構(gòu)建中介層,然后再添加芯片。臺積電計劃于2027年實現(xiàn)這一技術(shù)的量產(chǎn)。

臺積電還展示了一系列高性能集成解決方案,其中包括專為HBM4設(shè)計的N12和N3制程邏輯基礎(chǔ)裸晶,以及運用COUPE緊湊型通用光子引擎技術(shù)的SiPh硅光子整合方案。這些技術(shù)的推出,無疑將進一步推動高性能計算(HPC)和人工智能(AI)領(lǐng)域的發(fā)展。

臺積電還介紹了針對AI應(yīng)用的新型集成型電壓調(diào)節(jié)器/穩(wěn)壓器(IVR)。與傳統(tǒng)的電路板上的獨立電源管理芯片(PMIC)相比,IVR在垂直功率密度傳輸方面表現(xiàn)出色,傳輸效率高達5倍。這一技術(shù)的推出,將進一步提升AI芯片的能效表現(xiàn)。

 
 
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